數位電路(6)半導體儲存器

2021-10-02 06:57:27 字數 2048 閱讀 7231

半導體儲存器分類

如上是儲存器的分類,唯讀儲存器中,除了e2prom(電訊號可程式設計可擦除rom),還有乙個是eprom(可擦除的可程式設計rom),指的其實是uve-prom(用紫外線擦除的可程式設計rom。)

prom:programmable read-only memory

eprom:erasable programmable read-only memory

e2prom:electrically erasable programmable read-only memory

uve-prom:ultra-violet electrically erasable programmable read-only memory

1、靜態隨機儲存器(sram)

英文全稱是:static random-access memory,簡稱sram。

sram結構,通常由儲存矩陣、位址解碼器和讀/寫控制電路三部分組成。

位址解碼器分為行位址解碼器和列位址解碼器。

2、動態隨機儲存器(dram)

英文全稱是:dynamic random-access memory,簡稱dram。

dram的動態儲存單元是利用mos電容可以儲存電荷的原理製成的,在大容量、高整合度的ram中得到普遍的應用,dram是大容量ram的主流產品。

因為mos電容容量小,漏電流也不可能絕對為0,所以電荷保持的時間有限,必須定時給電容補充電荷,這種操作叫做重新整理或再生

dram結構,儲存矩陣、位址解碼器、讀寫控制電路和重新整理控制電路組成。

輸出快取器的作用:一是能提高儲存器的帶負載能力,二是對輸出狀態的三態控制,以便於系統的匯流排連線。

快閃儲存器(flash memory)
優點:快閃儲存器吸收了eprom結構簡單、程式設計可靠的優點,又保留了e2prom用隧道效應擦除的快捷特性,而且整合度很高。

快閃儲存器的結構和eprom極為相似,最大的區別是gf(浮置柵)和襯底的氧化層厚度不一樣。eprom中,氧化層厚度在30-40nm,快閃儲存器中僅為10-15nm,gc是控制柵

讀出狀態:字線給出+5v的邏輯高電平,vss為0電平。如果gf上沒有充電,則mos管導通,位線上輸出低電平;如果gf充有負電荷,則mos管關閉,位線上輸出高電平。

寫入方法:mos管的d極經過位線接至乙個較高的正電壓(一般為6v),vss接0電平,同時在控制柵gc加乙個12v左右、寬度約10us的正脈衝,這時d-s之間發生雪崩擊穿,一部分速度高的電子穿過氧化層到達gf,形成gf充電電荷。gf充電之後,mos管的開啟電壓為7v以上,字線為正常的邏輯高電平它不會導通。

1、位擴充套件

2、字擴充套件

數位電路7 半導體儲存器

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