半導體中，作為絕緣層的材料通常稱為什麼--->介電質（dielectric）
t/c（傳送transfer chamber ）的功能：提供乙個真空環境，以利機器手臂在反應腔與晶舟間傳送wafer，節省時間。
photo的流程：上光阻—**—顯影—顯影後檢查—cd量測—overlay量測
光阻（photoresist）：是一種感光的物質，其作用是將pattern從光罩（reticle）上傳遞到wafer上的一種介質，其分為正光阻和負光阻。
**：通過光照射光阻，使其感光。
顯影：將**完成後的圖形處理，以將圖形清晰的顯現出來的過程。
photo:光刻，將圖形從光罩上成像到光阻上的過程。
reticle：也稱為mask，光掩模板或者光照，**過程中的原始圖形的載體，通過**過程，這些圖形的資訊將被傳遞到晶元上。
pellicle：光罩護膜，是reticle上為了防止灰塵（dust）或者微塵粒子（particle）落在光罩的圖形面上的一層保護膜。
overlay：迭對測量儀，由於積體電路是由很多蹭電路重疊組成的，因此必須保證每一層與前面或者後面的層的對準精度，如果對準精度超出要求範圍內，則可能造成整個電路不能完成設計的工作。因此在每一層的製作的過程中，要對其與前層的對準精度進行測量，如果測量值超出要求，則必須採取相應的措施調整process condition。
photo overlay檢查的site是每片20個點。
overlay的測量：wafer被送進overlay機台中，先確定wafer的位置從而找到overlay mark，這個mark是乙個方塊in方塊的結構，大方塊是前層，小方塊是當層。通過小方塊是否在大方塊中心來確定ovelay的好壞。
清潔反應室chamble：
晶圓傳片機 wafer sorter products：全自動晶圓傳片機，主要用於晶圓的傳送、定位和排序。可實現對晶圓缺口的檢測並依據缺口位置對晶圓進行定位。配備高精度ccd感測器及影象處理軟體，可對晶圓id刻號進行識別與讀取；
參考鏈結
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